光刻机知识产权之争！中国厂商东方晶源，回怼ASML

日前，光刻机巨头阿斯麦(ASML)表示，中国企业东方晶源正在中国积极销售可能侵犯该公司知识产权的产品。

阿斯麦表示，已经提示自己的特定客户不要协助或纵容东方晶源从事潜在侵权行为，同时也向中国相关机构表达了自己的担忧。阿斯麦称正在密切关注这一事项，并准备在适当时机采取法律行动。

计算光刻软件（OPC）等的争议

2月11日，东方晶源发表公开声明，表示其核心产品具有完备的知识产权体系。

以下是东方晶源的声明：

东方晶源微电子科技（北京）有限公司（简称“我司”或“东方晶源”）关注到近期在 络媒体上出现大量与我司有关、且与事实不符的 道。

对于相关不实信息，我司将保留追究其法律责任的权利。

东方晶源是一家专注于集成电路领域良率管理的企业，已成功自主研发出计算光刻软件（OPC）、纳米级电子束检测装备（EBI）和关键尺寸量测装备（CD-SEM）三款核心产品，获得了行业和客户的高度认可。公司自成立以来一直遵守中国法律法规、合法合规经营。秉承独立研发、自主创新的理念，东方晶源尊重、保护知识产权，并形成了独立、完备的知识产权体系。

未来，东方晶源将继续与产业链上下游伙伴精诚合作，专注中国半导体核心技术的研发与突破，助力中国半导体产业全面发展。

这里面提到了计算光刻软件。而ASML很有可能是因为这个技术对东方晶源产生的怀疑。

计算光刻技术还有另一家公司XTAL掌握。而这家成立于2014年的公司，由前ASML员工创立，但后来在ASML诉讼其侵权的纠纷后，该公司破产并败诉，由此ASML接手了已破产的XTAL的大部分知识产权。

近期，光刻机巨头阿斯麦（ASML）近日在2021年财 中称，东方晶源可能与2018年因窃密而被判赔偿的XTAL公司有关联，但ASML并未提供更多证据。

现在，东方晶源的公开声明已经很好地回击了对方的怀疑。

计算光刻产品（ OPC )关键技术，是连接芯片设计和制造的关键技术应用于光刻掩模版优化，保证硅片最终图像不失真的必须软件，是决定产品良率的关键环节。东方晶源的软件完全自研，技术国际领先。

东方晶源14nm计算光刻技术已就绪

公司在2021年底披露，2021年公司完成28nm逻辑芯片关键工艺层良率硅片验证结果优异，持续突破技术壁垒，14nm计算光刻技术已就绪，首台套EBI产业化成果显著；公司于2021年度实现销售额迅速攀升过亿的“小目标”，接洽客户近60家，涉及存储、逻辑、第三代半导体领域等众多头部客户。