ASML 的软件

我们的光刻机是高科技硬件和先进软件的结合

您可能认为 ASML 是一家硬件公司，但我们实际上拥有世界上最大、最具开拓性的软件 区之一。

软件对 ASML 很重要。

随着计算机芯片尺寸的不断缩小，如果没有我们开发的软件，我们的客户就不可能制造出 10 纳米或更小的尺寸。

因此，我们的光刻机现在是高科技硬件和先进软件的混合体。

我们的开发团队在一系列编码实践中工作，为影响电子行业核心芯片制造系统的复杂问题提供创新解决方案。

嵌入式软件

我们所有的光刻系统都使用我们的嵌入式软件来引导和控制我们的机器。

在过去 30 年的开发过程中，我们的嵌入式软件代码库现在由数百万行代码组成。

我们越来越依赖一种称为模型驱动工程 (MDE) 的行业领先技术来改进我们的代码，为我们的业务提供竞争优势，并使我们的客户对我们的机器充满信心。

扫描仪计量软件

软件还协调我们的光刻系统（也称为“扫描仪”）中强大的机电模块的行为。

需要以纳米精度快速定位硅晶片。

我们的扫描仪计量软件有助于测量和补偿 由于材料缺陷、温度波动或大气压力变化而不可避免地在生产过程中出现的亚纳米级误差。

它计算我们的硬件应该如何纠正这个问题，协调许多组件以最大限度地提高系统性能。?

应用软件

我们的应用软件使我们的客户能够优化生产。

它本质上是我们的“机外”软件，用于系统校准、诊断、评估和自动化，帮助我们的客户与其系统进行交互。

用户界面位于我们的应用软件之上。

这是一个越来越重要的组成部分，由于推进数字化，为越来越多的需要使用我们的应用软件的人提供无缝的用户体验。

计算光刻软件

计算光刻软件是半导体行业中一个相对较新的领域。

这是一种用于重建掩模版的技?术，因为当我们缩小到纳米分辨率时，在硅晶片上图案化的结构会变形。

我们在计算光刻方面的工作 重点是开发对半导体图案化过程的准确预测。

然而，当今先进的芯片拥有数十亿个晶体管，由此产生的仿真模型很快就会变得计算密集。

因此，我们的计算软件也找到了简化模型的巧妙方法。

集成机器学习

我们的软件团队多年来一直在开发机器学习工具，以显着加快模拟和制造过程。

用于开发严格物理模型和机器学习模型的方法非常相似。

两者都需要大量的实验结果和数据来塑造预测，但机器学习节省了大量的时间和精力，同时提高了准确性和一致性。

机器学习还提供了一个机会，可以更充分地利用制造环境中生成的大量数据来增强过程控制。

使用大数据

我们的数据科学家将极端复杂性和非常大容量的数据独特地结合在一起。

他们需要以新颖的方式利用不同的数据源并生成可操作的见解。

这些洞察力可以创造新的产品供应或提高整个公司现有产品和服务的能力、性能和效率。

例如，我们的计量系统会生成数 TB 的数据。

提取、管理和分析如此大量的数据以优化我们的机器是我们软件开发团队面临的一项重大挑战。

我们的每台光刻机都配备了数百个传感器——在我们最新的 EUV 系统中大约有 1,500 个。

这些监控系统内部发生的一切：从映射晶片的表面和温度到验证掩模版的定位和检查透镜中的局部加热。

单个光刻系统每周可以从这些传感器生成多达 31 TB 的数据——这是哈勃太空望远镜一年收集的数据的三倍。

快速反馈循环

数据只有在您可以对其采取行动时才有用。

这就是为什么我们的光刻系统具有数千个驱动器，可以对晶片和掩模版台、透镜系统和照明器中的关键元件进行微调。

这些允许根据需要精确定制系统设置。

光刻系统内的数据和执行器之间的链接是自动的。

除此之外，我们还开发了强大的软件工具，可以分析来自光学计量和电子束检测的数据，以识别制造过程中的变化。

凭借这些知识，我们为我们的光刻系统计算最佳设置，以确保制造过程产生最佳结果。