在当前MEMS设计领域，工具集成度比以往增加了很多。为了应对市场竞争，用户需要一个已经成功证明能够加速商业项目设计周期的工具集。Tanner MEMS流程不只把MEMS器件与相应模拟/数模混合电路设计的集成变得简单，同时也能够帮助用户改善MEMS器件的设计。因此，它能够减少培训时间，缩短设计周期。
Tanner MEMS的特点及优势
– 同一环境下完整的IC和MEMS设计解决方案
– 25年的MEMS设计经验
– 从版图生成3D MEMS模型
– 支持导入和导出GDS、OASIS、DXF、Gerber 和 CIF 文件格式
– L-Edit提供可视化连接的节点高亮，可以快速查找和定位DRC和LVS问题
– 高度可编程的MEMS版图设计工具，如曲线多边形、多角操作等
– 参数化派生层产生工具，可实现特殊MEMS结构设计
– 针对MEMS工艺的DRC检查
– 支持附带边界重构的DXF数据格式导入导出
– 支持Luceda Photonics公司的IPKISS.eda工具, 进行硅光器件设计
– Soft MEMS工具选项
> 高级3D分析工具：机械，热，声，电，静电，磁性和流体分析
> 系统级仿真，包含IC和MEMS协同仿真
> 根据3D分析结果，自动生成MEMS器件行为模型
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