一、导入底层图形 

1.建立一个层   –  下面有一个layers 绘制如下图形

3.点击工具栏的 Instance 弹出一个Object Editor Options 的对话框（如果没有，那应该是缩小在了cell那一块）

点Cell旁边的放大镜可以选择自己要reference的cell过来，勾选Array Instance(可以生成你所绘制的基本图像的矩阵）

右键生成图形。 

 按ESC取消绘制，双击绘制的图形出现详细信息

这个时候只能看到一个cell1的框，看不清具体图形，因为看到的是cell hierarchy，在左侧的levels，增加number。也可以在Display中 选择或者快捷键。

 

 为了让图形更复杂，删掉其中一个cell1，然后绘制出一个5*5的矩阵

4.修改底层图形，可以改变上层的，首先要回到底层。

选中底层的cell，右键 –  Show As New Top 

双击其中一个box，修改尺寸 

 

 回到顶层图层

 照葫芦画瓢，建立新的cell， reference选择device

 

二、对绘制的Array的操作

1.删除array部分中部分元素

选中array会发现所有元素都有+

 Edit-Selection-Resolve Arrays

将Arrays中的元素独立出来

现在就可以选中部分元素了，可以看到有的有+ ，有的没有了 

选中要删除的删掉 （按住Shift 多选）

三、make hole

错误做法：建立两个layer ，在metal上画这种小box，在oxide上画一个框中他们的大box，但是这样还是独立的两个图层

正确：在上面的步骤后，选中所有的小box，Edit – Selection – Flatten Instances 

（慎用，会remove掉泥塑选中目标的所有的hierarchy structure）

先选中蓝色Box，再按住shift 选中小的，Edit –  Selection  – Subtraction – Others From First 

为了看起来更好，取消操作，删除大box

回到cell1，在oxide层建立一个box，操作subtraction 

回到device 

 建立新的cell – chip，reference -device ，Arrays 5*5，间隔x = 200 y = 0; x = 0 y =200。

四、创建同一cell的不同样式的structure

1.按之前的建立不同cell并reference

2.建立一个新的cell chip 

 

3.复制device 粘贴 选中Deep copy

（shallow只复制这一个cell  Deep 会复制下属所以的children cell）

 

4.在复制的cell1里面进行修改样式 

 5.回到chip 将arrays改为3*5

 6.选择Instance引入修改后的device