近日，鹏城半导体技术（深圳）有限公司（简称：鹏城半导体）申请的《PVD薄膜沉积系统软件 》、《高真空溅射系统软件》、《电子束蒸镀薄膜沉积系统软件》、《微米晶、纳米晶金刚石薄膜CVD沉积系统软件》4项软件著作权专利通过审批，经中华人民共和国国家版权局考证，根据《中华人民共和国计算机软件保护条例》和《计算机软件著作权登记办法》的规定，鹏城半导体技术（深圳）有限公司被认定这4项软件的法定著作权人，从颁证之日起，其版权将得到“中国版权保护中心”的有效保护。
《PVD薄膜沉积系统软件V1.0》于2022年05月17日被正式授予《中华人民共和国国家版权局计算机软件著作权登记证书》，登记 为2022SR0590529。
《高真空溅射系统软件V1.0》于2022年05月18日被正式授予《中华人民共和国国家版权局计算机软件著作权登记证书》，登记 为2022SR0595136。
《电子束蒸镀薄膜沉积系统软件V1.0》于2022年05月20日被正式授予《中华人民共和国国家版权局计算机软件著作权登记证书》，登记 为2002SR0613209。
《微米晶、纳米晶金刚石薄膜CVD沉积系统软件V1.0》于2022年05月20日被正式授予《中华人民共和国国家版权局计算机软件著作权登记证书》，登记 为2022SR0613210。
PVD薄膜沉积系统软件V1.0
电子束蒸镀薄膜沉积系统软件V1.0
高真空溅射系统软件V1.0
微米晶、纳米晶金刚石薄膜CVD沉积系统软件V1.0
国家软件著作权证书的获得，既是对鹏城半导体核心技术专利方面的权威认可和充分肯定，更是一种 会责任！鹏城半导体将会继续发挥研发技术优势，在产品技术研发及自主创新的道路上，坚守企业初衷，心无旁骛地致力于为用户提供更好的产品和服务。
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