在光子芯片之后，中国也取得量子芯片突破，不再需要EUV光刻机，ASML后悔莫及…

近日华为、百度等陆续公布了“超导量子芯片”专利，说明中国芯片在量子芯片技术上再进一步，这对于中国芯片行业来说无疑是重大的技术突破，ASML勒住中国芯片脖子的EUV光刻机将逐渐被淘汰。

对于中国芯片产业来说，目前最大的阻碍无疑就是EUV光刻机，由于众所周知的原因，ASML至今无法对中国只有出货EUV光刻机，而EUV光刻机对于中国芯片产业推进7nm及更先进工艺非常关键。

不过中国显然不愿受困于EUV光刻机，基于现有的芯片技术，中国研发了芯粒技术，可以大幅提升芯片性能，依托于国内已经量产的14nm工艺可以获得7nm的性能，并且中国的芯粒技术已走在世界前列，通富微电研发的5nm芯粒技术已获得AMD的认可，AMD交给通富微电近百亿美元的订单，另外一家东莞的企业更已研发出3nm封测技术，都凸显出中国基于现有芯片技术的突破。

正如上述当前的先进芯片制造工艺还是需要EUV光刻机，中国也在努力寻求自研EUV光刻机，据悉已申请了数十项专利，只不过EUV光刻机需要上十万个零件，本身就是一条很长的产业链，解决EUV光刻机需要较长的时间，为此中国开始大举发展新芯片技术，石墨烯芯片、量子芯片、光子芯片等都是中国正在研发的先进芯片技术。

如今中国在量子芯片、光子芯片方面都取得了突破，那就意味着中国或将实现弯道超车，彻底绕开EUV光刻机，开辟新的芯片技术路线，彻底摆脱ASML的羁绊，如此中国可以彻底掌握芯片自研技术优势。

中国加快光子芯片的商用，量子芯片也在加快进度，对于ASML来说无疑是巨大的打击，意味着ASML赖以自豪的EUV光刻机将因此被彻底抛弃，恐怕ASML也没想到它研发的EUV光刻机技术竟然如此快就被抛弃吧。