十年磨一剑，华科大团队成功研发计算光刻EDA软件

华中科技大学教授刘世元。

刘世元是华中科技大学集成电路测量装备研究中心主任，同时也是光谷实验室集成电路测量检测技术创新中心主任。他早年师从著名机械学家杨叔子院士，于1998年获工学博士学位，一直从事计算光刻研究工作，坚持做基础的研究，做关键技术的攻关。

“OPC是芯片设计工具EDA工业软件的一种，没有这种软件，即使有光刻机，也造不出芯片。”刘世元介绍，在芯片制造中，光刻是最为关键的一种工艺，需要通过光刻成像系统，将设计好的图形转移到硅片上，从而制成芯片。而随着芯片尺寸不断缩小，硅片上的曝光图形会产生畸变，一旦畸变，意味着芯片制作失败，材料 废。因此，在90nm甚至180nm以下芯片的光刻制造前，都必须采用一类名为OPC（光学临近校正）的算法软件进行优化、正畸。

计算光刻OPC原理图。

没有OPC，所有制造厂商将失去将芯片设计转化为芯片产品的能力，而全球OPC工具软件市场目前完全被美国公司占领。“要做就做国家急需，向最难的问题发起冲击。”刘世元找准自己的学术定位——面向IC制造国家重大战略需求，立足纳米光学计算测量与计算光刻基础理论及学术前沿开展研究。十多年来，他和团队聚焦领域的基础理论与技术创新，坚持最底层的代码一行行敲、最基础的公式一个个算，终于打造出自主可控的OPC软件算法。

据介绍，相关成果正在做集成与测试，并到芯片生产厂商做验证。刘世元表示，希望自己的研究成果能够最终转化成产品，为国家和 会发展作贡献。今后，他将带领团队和他所创立的宇微光学软件有限公司加快产品推广步伐，加快进入国内外芯片制造厂商市场，力争成为全球芯片产业链中重要的一环。

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